本发明公开了一种适于生物分子检测的
芯片单元的制备方法，包括衬底上淀积电热绝缘材料和基底材料；光刻和干法刻蚀的方法制作图形作为制备侧墙的基底；淀积侧墙材料；干法回刻形成高和宽均为纳米尺寸的侧墙；用湿法腐蚀的方法去侧墙基底；光刻或电子束光刻+薄膜淀积+剥离工艺在侧墙上搭上制作电极金属层；薄膜淀积工艺制备绝缘材料层；化学机械抛光方法抛光表面同时切断侧墙两旁的金属连接；湿法腐蚀方法去除剩余的侧墙材料形成纳流体通道；晶片键合封顶，减薄封顶晶片；通道两端开孔并在通道两侧的金属上开孔引出电极即得。本发明能突破光刻分辨率限制及提高芯片单元与CMOS工艺的兼容性，并提高适于生物分子检测的芯片单元的制备效率。
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来源：北方有色网
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