本发明公开一种化学机械抛光系统中抛光垫与抛光盘之间的气泡的监测方法,包括步骤:声波检测装置发射进入抛光垫上晶片运行轨迹处的声波;接收从抛光垫上晶片运行轨迹处返回的回波;分析回波延迟,监测是否出现气泡和出现的气泡大小;显示监测结果;根据监测结果产生控制化学机械抛光系统运行的命令信号;控制化学机械抛光系统运行的命令信号发送到化学机械抛光系统,由此控制化学机械抛光系统运行。
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“抛光垫与抛光盘之间的气泡检测方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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