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用于有机膜的CMP研浆组成物、其制备方法以及使用其的研磨有机膜的方法

894   编辑：管理员   来源：北方有色网  
2023-03-19 07:00:52
本发明是有关于一种有机膜的CMP研浆，包括氧化剂及溶剂。本发明的有机膜的CMP研浆具有通过方程式(1)所呈现的为约5°至90°的Δθw，其为水接触角变化，且在将涂布有有机膜而待研磨的晶圆，浸渍于CMP研浆中10小时之后所测量。
声明：
“用于有机膜的CMP研浆组成物、其制备方法以及使用其的研磨有机膜的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
         
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