一种等离子化学气相沉积机台异常监控方法，包括以下步骤：对腔体间的活动门阀进行监测；获取晶片掉落至活动门阀口的信息；发出控制指令暂停所述活动门阀闭合动作。上述等离子化学气相沉积机台异常监控方法中，通过对腔体间的活动门阀进行监测，实时监测晶片是否掉落至活动门阀口，一旦出现晶片掉落的情况，则发出控制指令暂停活动门阀的闭合动作，有效防止等离子化学气相沉积机台中因腔体间传送系统异常而造成的晶片破损。同时，还提供了一种等离子化学气相沉积机台异常监控系统。
声明：
“等离子化学气相沉积机台异常监控方法及系统” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
795
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
