一种用于化学气相沉积金刚石薄膜的紧凑型真空反应装置。属于金刚石薄膜的化学气相沉积技术领域。为了解决真空条件下CVD金刚石薄膜在微刀具上的沉积问题。壳体上下端分别与上盖和底座可拆卸密封连接构成反应室，真空计固定在上盖上，真空计的检测端紧密穿入上盖设置在壳体内，上盖上固定有与壳体内腔相通的管路，针阀固定在上盖的管路上，针阀与管路相通，上盖的观察孔一处固定有观察窗一，上盖上设有多个冷水环槽，壳体的侧壁上的两个观察孔二处各固定有一个观察窗二，电磁阀固定在底座的进气孔处，导气管一端连接于进气箱，另一端与反应室相通，导气管上安装有导气阀门，载物台设置在反应室内并固定在底座上。本发明主要用于对沉积件微刀具表面金刚石薄膜沉积。
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来源：北方有色网
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