本文所述的实施方式总体涉及一种基板处理腔室，并且更具体地涉及一种用于监测所述基板处理腔室的清洁处理的设备和方法。处理器从设置在基板处理腔室中的一个或多个传感器接收一个或多个温度读数。所述处理器从所述一个或多个温度读数确定每个温度读数的峰值，这指示放热膜清洁反应结束。在确定每个温度读数已经达到峰值时，所述工艺发出通知以停止所述清洁工艺。
声明：
“在等离子体增强化学气相沉积腔室清洁期间用于终点检测的温度传感器” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1025
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
