本发明属于图案化阵列薄膜制备技术领域，具体涉及一种图案化单晶
钙钛矿阵列薄膜的制备方法与应用，基于分子外延定位生长。本发明使用NH2‑CH2CH2‑SH分子修饰整列化的图形电极，用以辅助定位外延生长单晶钙钛矿薄膜，并通过空间限制技生长超薄的单晶钙钛矿薄膜，实现了单晶钙钛矿阵列电极薄膜术的精确定位生长、阵列化和图形化，极大发挥了钙钛矿材料的优越的光学性能；对甲氨基卤化物钙钛矿体系的片上集成光电功能性器件研究扩展了思路，进一步为生产高性能精度、便携易加工和应用性好的阵列光电探测器以及片上集成光源提供了方法和科学依据，促进了光电探测器和片上集成光电设备的进一步发展。
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“图案化单晶钙钛矿阵列薄膜的制备方法与应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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