本发明属于材料制备技术领域，公开了一种高浓度钼掺杂三氧化钨光催化
纳米材料及其制备方法，所述高浓度钼掺杂三氧化钨光催化纳米材料按照质量份数计，由三氧化钨8～12份、钼酸钠6～7份、石墨2～4份、去离子水23～30份、盐酸8～11份、硝酸4～5份、乙二醇5～8份组成。本发明制备的高浓度钼掺杂三氧化钨为光催化纳米材料，可降低原三氧化钨材料中的电子空穴复合率，能增强其在光催化反应中对太阳光谱的吸收宽度，提高光催化反应对太阳光的利用率，并提高光催化降解有机物的效率。同时，本发明通过改变催化剂的结构提高其光催化性能，钼负载中孔三氧化钨能够用有效的利用可见光，拓展了三氧化钨的光响应范围。
声明：
“高浓度钼掺杂三氧化钨光催化纳米材料及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1206
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
