基础金属	铜电解铜铜精矿铜管铜棒废铜铜排铜合金精铜杆再生铜杆铜板带铝铝土矿氧化铝电解铝铝辅料铝棒铝合金锭废铝铝杆铝型材铝板卷铅铅精矿铅锭铅蓄电池再生精铅还原铅废铅蓄电池铅合金锌锌精矿电解锌锌合金氧化锌锌粉锡锡精矿锡锭锡材
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新能源	锂锂矿锂化合物金属锂镍镍矿镍铁精炼镍镍盐高冰镍 MHP 钴电解钴钴粉氯化钴四氧化三钴硫酸钴钴中间品氧化钴碳酸钴钴酸锂锰锰矿电解锰电池级硫酸锰锂电池三元前驱体隔膜磷酸铁电解液正极材料电芯石油焦针状焦包覆沥青人造石墨硅碳负极硅氧负极电解液隔膜

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半导体用超高纯金属溅射靶材

4460

规格/型号：半导体用超高纯金属溅射靶材

品牌：暂无

应用领域：暂无

产地：浙江 - 宁波

厂家/供应商：宁波江丰电子材料股份有限公司

咨询电话:：暂无（请说明信息源自“北方有色网”）

更新时间：2021-11-09

级别：已认证

半导体用超高纯金属溅射靶材说明介绍

简介高纯铝以及铝合金靶材： 1、产品包括：Al、Al30ppmSi,、Al0.5Si、Al0.75Si、Al0.8Si、Al1Si、Al0.5Cu、AlSiCu等； 2、纯度为4N~5N5； 3、不同的晶粒晶向满足客户的不同溅射需求； 4、能够和客户一起开发特制的各种类型长寿命靶材。高纯钛靶材以及钛环： 1、产品包括：4N5钛、5N钛、低氧钛等； 2、不同的晶粒晶向满足客户的不同溅射需求； 3、能够为客户提供不同类型特制的长寿命靶材和环件。高纯铜、铜合金靶材以及铜环、铜阳极： 1、产品包括：4N铜、4N5铜、5N铜、6N铜以及铜铝、铜锰等合金靶材、纯铜以及CuP阳极材料、纯铜