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工作原理
SU5000采用ZrO/W肖特基式热场发射电子枪，通过热电子激发产生高亮度电子束，结合电磁透镜系统将束斑直径缩小至纳米级。其核心的“减速模式”技术通过降低样品表面着陆电压，减少电子束对样品的损伤，实现低加速电压下2.0nm@1kV的高分辨率成像。设备配备五轴全自动样品台，支持360°旋转与-20°至90°倾斜，可精准定位复杂结构样品。
应用范围
覆盖金属材料裂纹分析、半导体器件失效检测、锂电池电极微观结构表征及生物样本超微形态观察。在新能源领域，可无损分析正负极材料孔隙结构；电子制造中支持PCB焊点虚焊检测；地质学领域用于矿物晶体形貌鉴定。设备兼容导电性差的样品，无需喷金处理即可直接观察高分子材料表面。
产品技术参数
分辨率：1.2nm@30kV（二次电子），2.0nm@1kV（减速模式）
加速电压：0.5-30kV（0.1kV步进）
最大束流：>200nA
样品室容量：Φ200mm×80mm（最大样品尺寸）
探测器配置：低位二次电子探测器、高灵敏度低真空探测器（UVD）、5分割半导体背散射探测器（PD-BSD）
放大倍率：10-1,500,000×（1,280×960像素）
产品特点
智能化操作：搭载“EM Wizard”界面，通过点击操作即可优化成像参数，降低操作门槛。
低真空模式：支持10-300Pa压力环境，消除非导电样品荷电效应，减少镀膜步骤。
模块化扩展：可选配能谱仪（EDS）、电子背散射衍射（EBSD）及波谱仪（WDS），实现成分分析与晶体结构表征。
高效成像：23寸LCD显示器支持多模式显示，配合高速图像采集系统，提升分析效率。
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