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工作原理
GX-7C基于无限远校正光学系统，光源从下方照射样本，光线通过物镜后形成实像，经三目观察筒或数码设备传输。设备内置编码器，可自动识别物镜倍数并同步调整光学路径，确保放大倍数切换时图像清晰。支持明场、偏光、荧光（可选）等多种观察模式，通过调节载物台与物镜位置，可清晰呈现样本晶粒结构、缺陷或相变特征。
应用范围
适用于冶金行业（如金属晶粒度评级、焊接接头分析）、半导体制造（如晶圆缺陷检测、薄膜均匀性检验）、材料科学（如相变研究、纳米材料表征）及工业质检（如精密零件表面质量控制）。其研究级设计尤其适配高校实验室、科研院所及高端工业检测场景。
产品技术参数
光学系统：无限远校正光学系统，支持明场/偏光/荧光模式
物镜配置：5×（NA 0.15）、10×（NA 0.30）、20×（NA 0.45）、50×（NA 0.65）、100×（NA 0.90）物镜
目镜：超宽视野平场目镜10×（视野直径≥25mm），视度可调（±5D）
编码器控制：自动识别物镜倍数，同步调整光学路径与标尺
载物台：电动升降载物台（行程30mm），X/Y轴电动移动（范围100mm×100mm，精度0.1μm）
光源：100W卤素灯（亮度可调，寿命≥2000小时）+ LED荧光光源（可选）
数码接口：C型接口，支持500万像素科研级CCD与图像分析软件
仪器尺寸：650×600×850mm，净重95kg，电源AC 220V/50Hz（功耗≤350W）
产品特点
研究级光学性能：无限远校正系统消除像差，100×物镜（NA 0.90）适配高分辨率观察需求，如纳米材料表征。
编码器智能控制：自动识别物镜倍数并同步调整标尺，消除手动校准误差，提升检测效率。
多模式观察：支持明场、偏光、荧光模式切换，适配金属相变、半导体缺陷、生物样本等多种分析需求。
数字化扩展：集成500万像素CCD与专业分析软件，可进行晶粒统计、缺陷标注及数据导出，满足科研级分析要求。
稳定与耐用：金属机身结构稳固，电动载物台升降平稳，适应高强度实验室使用场景。
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