商品描述
【产品名称】1200℃-CVD梯度管式炉
【炉管尺寸】φ25--φ120mm
【加热区】300mm+300mm
【额定温度】1200℃
【控温精度】±1℃
【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或
纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。
1200℃-CVD梯度管式炉是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。
二、产品特点
炉外壳
1、外壳采用金属Q235低碳钢，表面静电耐药涂装，抗腐蚀
2、 坚固的双层金属框架配合隔热风扇结构，炉表面温度低
3、水平使用方式，上开盖结构，操作方便
耐火材料
多层隔热设计，由轻质
氧化铝陶瓷纤维和高品质隔热板背衬组成，不含石棉成分，热损失小，能耗低
加热系统
1、高品质HRE螺旋电阻丝发热体，牢固的镶嵌在炉膛表面，在炉腔内自由热辐射加热，使用寿命长
2、电阻丝环形加热，从而实现炉内的良好均匀性
温度控制面板
1、PID配合SSR控制方式，温度控制准确
2、国际标准化N型
镍铬硅热电偶，测温范围0-1300℃，使用寿命长
3、炉门带有开门断电保护开关
程序控制器
1、适应复杂工艺需求的的控制器
2、操作简单直接，编程灵活
3、可编程4条曲线，单条曲线8个程序段
4、超温和故障报警，自动进行保护
真空气氛功能
1、带有304不锈钢的密封法兰，获得炉管内的真空或者气氛
2、高品质石英玻璃工作管，也可选择金属或刚玉材质的工作管，从而适应不同的工况
3、高性能双极旋片
真空泵，可获得5pa的真空度，数字真空计可显示真空度
4、带有气路控制单元，控制单元可选择1-3路MFC自动控制系统
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