膜厚测量仪
型号：F10-RT
简介
KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。FilmetricsF10-RT以真空镀膜为设计目标，只要单击鼠标即可获得反射和透射光谱。不需要费时改变硬件配置，F10-RT-UV仅需要透过单击鼠标就能够同时收集反射与透射光谱，不到一秒钟的时间，阵列的光谱仪就可以快速的收集到资料。另外，Filmetrics专用的Autobaseline设计可以减少十倍以上的基准校准的参数读取时间。只需传统价格的一小部分，用户就能进行低/高分析、确定FWHM并进行颜色分析。可选的厚度和折射率模块让您能够充分利用FilmetricsF10的分析能力。测量结果能被快速地导出和打印。
一、主要功能
l主要应用
同步测量薄膜的反射率和穿透率
空间色彩系统的色彩分析
多层薄膜分析能力
膜厚和参数解算模块
l技术能力
光谱波长范围：380-1050nm
厚度测量范围：15nm-70μm
测量n&k小厚度：100nm
准确度：取较大值，2nm或0.4%
精度：0.1nm
稳定性：0.07nm
光斑大小：6mm
二、应用
半导体制造：光刻胶、氧化物、氮化物
液晶显示器：液晶间隙、聚酰亚胺保护膜、纳米铟
锡金属氧化物
生物医疗原件：聚合物/聚对二甲苯涂层、生物膜/气泡球厚度、药物涂层支架
光学镀膜：硬镀膜、增透镀膜、Filters滤光
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