F20单点膜厚测量仪
KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。
测量原理-光谱反射：
光谱椭圆偏振仪(SE)和光谱反射仪(SR)都是利用分析反射光确定电介质，半导体，和金属薄膜的厚度和折射率。两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光,而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。光谱反射仪测量的是垂直光，它忽略偏振效应（绝大多数薄膜都是旋转对称）。因为不涉及多种移动设备，光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的首选，而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间，两种技术都可用。
主要应用：
测量厚度、折射率、反射率和穿透率：
单层膜或多层膜叠加
单一膜层
液态膜或空气层
技术能力：
光谱波长范围：190-1700nm
厚度测量范围：1nm-250μm
测量n&k小厚度：50nm
准确度：取较大值，1nm或0.2%
分辨率：0.02nm
稳定性：0.05nm
光斑大小：1.5mm
样品尺寸：直径从1mm到300mm或更大
半导体薄膜：光刻胶、工艺薄膜、介电材料
液晶显示：OLED、玻璃厚度、ITO
光学镀膜：硬涂层厚度、减反涂层
高分子薄膜：PI、PC
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