全部
▼
625
设备名称
光注入退火炉
设备型号
SC-LED05L/RA
深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司光注入退火炉设备用途
调节电池片费米能级变化，控制H总量及价态，提高H钝化与缺陷修复效率，达到降低P型电池衰减效应，提高N型电池转换效率的效果。
深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司光注入退火炉工艺流程
预热→光注入→冷却
深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司光注入退火炉技术特点
1、双轨产线，机架电气完全独立，互不干扰。
2、大产能：匹配丝印工序产能，CT≤0.80秒，基于硅片尺寸M10(18X±0.5mm*18X±0.5mm)。
深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司光注入退火炉设备参数
型号 Model：SC-LED05L/RA
硅片尺寸(mm)Wafer Size：156/166/18X/210/230可选optional
Uptime：≥99%
破片率 Breakage Rate：≤0.01%
外形尺寸(mm) Footprint：11600 (L)x1300 (W) x2220 (H)(不含排废，指示灯Excl. exhaust & indicator light )
产能 Throughput：≥4500片/小时、≥4500Pcs/h
功率消耗 Power Consumption：≤50KWx2台
咨询底价
