DE400 热阻蒸发仪可配置多组蒸发源，连续旋转的样品台或可倾角自转样品台。
特点
可选可倾角和自转基片台
样品台可选水冷或加热
可选手套箱
典型应用
用于薄膜沉积研发
LIFT-OFF工艺的理想平台
可蒸发金属，半导体、介质材料或有机材料
主要配置
真空阀门 高真空插板阀
蒸发源 多组热蒸发源
样品台 连续旋转的样品台或可倾角自转样品台
膜厚检测 晶振膜厚监控
真空测量 宽量程真空计
主要技术指标
极限真空度 优于5E-7Torr
基片尺寸 可选：2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
膜厚均匀性 优于+/-3%
蒸发速率分辨率 0.01 A/s
膜厚分辨率 0.1 A
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