1. 适用领域：
钛、锆、超导体、储氢材料、形状记忆合金、磁铁、金属间合金和高温材料等活性材料；
2. 悬浮熔炼的原理：
VIM-HC真空悬浮熔铸炉是在真空条件下将所熔炼的金属或非金属固体炉料，置于感应线圈所形成的高频或中频交变电场中，并利用通水冷却的金属坩埚作为磁场的“聚能器”，使能源磁场能量集中于坩埚容积空间，进而在炉料的表层附近形成强大的涡电流，一方面释放出焦耳热使炉料溶化，另一方面形成洛仑兹力场使熔体悬浮(或半悬浮)和搅拌。由于磁悬浮的作用，使熔体与坩埚内壁脱离接触，这样熔体与坩埚壁之间的散热行为由传导散热改变为辐射散热，从而导致散热速度聚减。使熔体可达到很高的温度，(1500℃—2500℃)宜于熔炼高熔点金属或其合金。
3. 技术优势：
熔炼时炉料的悬浮有效防止炉料与坩埚壁接触所带来的污染，宜于获得高纯度或极活泼的金属与非金属材料；
熔体电磁搅拌为熔体提供了极好的热均匀性和化学均匀性；
通过感应线圈的中频或高频电流来控制熔体的升温和悬浮，实现很好的控制能力；
熔炼温度高，最高熔炼温度超过2800℃，能熔化Cr、Zr、V、Hf、Nb、Mo、Ta等金属；
感应加热方法本身就是一种非接触的加热方式，避免了用等离子束、电子束等加热方法给坩埚和金属溶液带来的冲击与挥发；
功能齐全，具有熔炼、底铸、倾铸、加料等功能，并能配备连续加料、连续拉锭装置和离心铸造装置（选择订购）。
4. 技术参数：
521 
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