PulsPlasma® 氮化系统
PulsPlasma® 离子氮化设备是一款用于等离子体扩散工艺的真空炉，它可使零件表面富含氮和/或碳，从而提高耐磨损和耐腐蚀能力。PlaTeG脉冲等离子体®扩散工艺，特别是PulsPlasma®脉冲离子氮化(PPNTM)和PulsPlasma®脉冲离子氮碳共渗(PPNCTM)应用了等离子体扩散方法，相比于传统的氮化工艺(如盐浴软氮化或气体氮化)，它为客户提供了众多优势，而且对环境友好，有助于节约资源:
工艺气体和电力消耗低
使用环保型工艺气体
灵活的处理温度，温度范围350℃ – 600℃
可选择使用机械盖板进行局部处理
用于处理高合金钢和不锈钢(保持抗腐蚀能力)
可对氮化层结构进行控制
PulsPlasma®等离子体发生器技术 / 新技术
脉冲电流和电压是准方波脉冲波形，这意味着有需要的等离子体输出可以快速、最佳和几乎无损地传输到待处理零件。脉冲的开始时间和关断时间可以在30微秒到999微秒之间的任何时间编程。因此，它既可以控制氮化层的结构，又可以防止部件过热。
用于单极和/或双极操作
通过快速关断抑制电弧(< 0.1 µs)
PlaTeG PulsPlasma®发生器在室温下也能提供稳定的辉光放电等离子体
优化了PlaTeG-PPSATM技术，有助于缩短处理时间并获得均匀的渗氮结果
PlaTeG-PP120
尺寸：直径1000mm x 高度1600mm
根据装载产品和所需的处理结果，可以进行各种PulsPlasma® 扩散工艺：
PPNTM-PulsPlasma® 氮化：通过氮的扩散提高大多数钢、钛合金和
铝合金的耐磨损和耐腐蚀能力;
PPCNTM- PulsPlasma®氮碳共渗：通过氮和碳的扩散增强钢的耐磨损和耐腐蚀能力;
PPCTM-PulsPlasma® 渗碳：通过碳的扩散提高不锈钢的耐磨损和耐腐蚀能力;
PPOTM-PulsPlasma®氧化处理：对钢铁表面进行氧化处理，有助于提高耐腐蚀性并降低摩擦系数;
LT-PPNTM, LT-PPNTM, LT-PPNTM对铬含量大于13%的不锈钢零件进行处理，在保持耐腐蚀性的同时还可以提高耐磨性;
设备类型 / 灵活和可靠的工艺
根据客户的需求及相关应用，可对炉子进行量身设计。
钟罩式系统(标准)
井室炉
卧式炉 (水平)
PVA TePla坚信简化系统及部件和确保安全性是相当重要的事情。为此，我们不断与时俱进，自主研发并设计出多款出色且适应性强的系统。
H-卧式炉：
用于大型和重型零件
M-单室型设备：
带有一个真空钟罩
S-交替型设备：
带有一个真空钟罩和两个钟罩底座
T-双室型设备：
带有两个真空钟罩和两个钟罩底座
520 
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