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真空高温烧结炉(碳化硅、氮化硅)

真空高温烧结炉(碳化硅、氮化硅)

浏览量 611
规格/型号:VHSF系列
品牌:暂无
应用领域:冶金
产地:辽宁 - 沈阳
厂家/供应商:沈阳真空技术研究所有限公司
咨询电话::024-24809927(请说明信息源自“北方有色网”)
更新时间:2025-03-05
级别:待认证

真空高温烧结炉(碳化硅、氮化硅)说明介绍

真空高温烧结炉(碳化硅、氮化硅)

用途:

主要用于SiC陶瓷制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结、热等静压烧结,也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的烧结。

优势与特点:

最高 温度可达到3000℃。

新型加热室结构,多温区独立控温,温度均匀性好,损耗功率小,更节能。

进口红外测温仪,测温准确,误差小。

可选项:

炉体形式:立式,卧式

加热方式:电阻加热;感应加热

冷却方式:自然冷却;气体循环冷却

真空泵组:进口;国内优质品牌

目前该设备已形成系列化产品,不在系列范围内的可根据客户要求定制。
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