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沈阳好智多新材料制备技术有限公司的小液滴喷射制备系统主要用于在高真空或超纯气氛保护下，制备低熔点和高熔点材料的均匀微球，还能通过预留的拓展接口增加沉积模块，用于增材制造的模拟和探究。
该系统具备广泛的熔融温度范围(室温至1200℃)，配备进口红外测温仪及热偶，极限真空度可达7×10⁻³Pa，可通入氩气并用质量流量计精准控制流量。
其坩埚样品尺寸为φ50×80，熔炼电源为35KVA，频率在30-80KHz之间。感应熔炼喷注系统通过气瓶、减压阀、截止阀和质量流量计将气体引入液滴发生器，可调节流量以控制液滴初始速度。收集罐可使用用户自备的真空淬火油作为冷却介质。
液滴发生系统可调节控制波形、频率和振幅，谐振初始位置可调，满足不同工艺需求。设备采用触摸屏加PLC控制系统，具备水流继电保护及其他连锁保护功能，还可加装用户自备的高速摄影系统辅助分析实验结果。
技术参数：
1. 熔融温度范围：室温~ 1200℃;配置进口红外测温仪及热偶;
2. 极限真空度：7x 10-3Pa;可通入工作气氛：氩气;用质量流量计控制流量;
3. 典型的坩埚样品尺寸：φ50X80;
4. 熔炼电源：35KVA;30-80KHz;
5. 感应熔炼喷注系统：通过气瓶+减压阀+截止阀+质量流量计将气体引入液滴发生器;通过调整流量来调节液滴的初始速度。
6. 收集罐可采用冷却介质：真空淬火油(用户自备);
7. 液滴发生系统：控制波形、频率和振幅多种样式可选，谐振的初始位置可调，可实现实验参数的大范围调整，以满足工艺摸索的需要
8. 设备采用触摸屏+PLC控制系统，设有水流继电保护功能，及其它连锁保护。
9. 设备可以加装高速摄影系统(用户自备)，进行辅助分析实验结果。
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