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产品应用：
采用高频感应加热、激光加热或电子束加热，利用杂质元素在固相和液相之间溶解度的不同，通过熔区的运动提纯材料的工艺设备。用于生产高纯度的陶瓷、金属、合金、无机和有机化合物晶体。
技术参数：
1. 感应熔炼水平区熔提纯炉：(HVZM-I)
2. 电子束熔炼垂直区熔提纯炉：(HVZM-EB)
3. 激光束熔炼垂直区熔提纯及单晶生长炉：(HVZM-L)
4. 感应熔炼水平区熔+垂直区熔联合提纯炉：(HVZM-IF)
型号HVZM-EBHVZM-LHVZM-1
真空性能极限真空度6.67 x 10-4Pa6.67 x 10-4Pa6.67 x 10-4Pa
压升率≤0.67Pa/H≤0.67Pa/H≤0.67Pa/H
抽气系统分子泵+机械泵分子泵+机械泵分子泵+机械泵
真空测量系统数显复合真空计数显复合真空计数显复合真空计
最高加热温度2600℃2600℃1800℃
最大棒料尺寸Dn10mm×200mmDn10mm×200mmDn20mm×200mm
样品移动速度1mm/H~360mm/H1mm/H~360mm/H0.001~1mm/s
坩埚材质无坩埚结构无坩埚结构水平区熔采用水冷铜坩埚
立式区熔采用无坩锅结构
电源最大功率10~30KW1.5~2KW75KW
控制系统PC+PLC控制系统实现设备的自动控制
设备尺寸(L×W×H,mm)2700×1500×21002700×1500×21003000×1500×1600
用电需求20~40KW,380V/3P/50Hz10KW,380V/3P/50Hz90KW,380V/3P/50Hz
设备特性1. HVZM-D, HVZM-L设有LMC液态金属冷却系统
2. HVZM-1F型的立式区熔模块部分设有LMC液态金属冷却系统
★设备自带进水分水器、回水回流器阀门及管路;不配置水循环系统;
★可选配水循环系统：包括不锈钢水箱、水泵、阀门及管路等;
★可根据用户需求非标定制。
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