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产品应用：
真空或气氛保护下，通过石墨或金属电阻加热对材料进行热处理。
本炉用于各种金属材料(高温合金、钛合金、工模具钢等)在真空或惰性气体保护环境下的高压气体淬火，光亮退火，固溶时效，回火等热处理工艺。
技术参数：
型号HVHF-M(中低温)HVHF-CG(超高温)HVHF-QZ(高压气淬)
极限真空度6.67×10-4Pa6.67×10-4Pa6.67×10-3Pa~6.67×10-4Pa
压升率0.67Pa/H0.67Pa/H0.67Pa/H
抽气系统分子泵系统扩散泵/分子泵机组
真空测量系统数显复合真空计
最大温区尺寸(可按客户要求定制)Φ500×700mmΦ200×300mm200×200×300mm
淬火方式 无 无高压气淬
加热方式双区加热单区/双区加热
最高工作温度石墨加热 2500℃
钨加热 2200℃钼加热 1600℃
温度均匀性≤±5℃≤±5℃≤±5℃
温控精度±3℃±3℃±2℃
隔热屏石墨加热：硬质碳毡隔热层
钨加热：全金属屏隔热层全金属保温屏
控制系统触摸屏+PLC全自动控制系统配备
设备尺寸(L×W×H,mm)
(根据温区要求变化)1700×1600×30001500×1200×17002500×2000×2000
用电需求
(按设备实际尺寸变化)100KW，380V/3P/50Hz70KW，380V/3P/50Hz30KW，380V/3P/50Hz
★设备自带进水分水器、回水回流器阀门及管路;不配置水循环系统;
★可选配水循环系统：包括不锈钢水箱、水泵、阀门及管路等;
★可根据用户需求非标定制。
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