1200℃RTP退火炉
产品型号：CY-RTP1000-Φ300-T
简单介绍：
1200℃RTP退火炉是一款12寸片快速退火炉，采用革新的加热技术，可实现真正的基底温度测量，不需要采用传统快速退火炉的温度补偿，温度控制**，温度重复性高，客户包括国际上许多半导体公司及知名科研团队，是半导体制程退火工艺的理想选择
详情介绍：
1200℃RTP退火炉是一款12寸片快速退火炉，采用革新的加热技术，可实现真正的基底温度测量，不需要采用传统快速退火炉的温度补偿，温度控制**，温度重复性高，客户包括国际上许多半导体公司及知名科研团队，是半导体制程退火工艺的理想选择。
技术特色：
• 真正的基片温度测量，无需传统的温度补偿
• 红外卤素管灯加热
• 极其优异的加热温度**性与均匀性
• 快速数字PID温度控制
• 不锈钢冷壁真空腔室
• 系统稳定性好
• 带触摸屏的PC控制
• 兼容常压和真空环境，真空度标准值为5×10-3Torr，采用二级分子泵真空度低至5×10-6Torr
• *高3路气体（MFC控制）
• 没有交叉污染，没有金属污染
技术参数：
464 
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