VLF-D(冷坩埚定向凝固炉)
VLF-D冷坩埚晶体生长炉
冷坩埚定向凝固炉是将分瓣水冷
铜坩埚置于强大的交变磁场中，利用感应涡流加热水冷铜坩埚中的金属使其融化，并利用电磁力使熔融金属与水冷铜坩埚保持非接触状态。这样可以避免坩埚对需要熔炼材料的污染。金属熔化后，籽晶杆边旋转边提拉，从而能够生长出高纯度的金属单晶或合金单晶。
一、设备特点
1. 采用卧式炉体，侧部开门结构，进出料方便，炉体结构紧凑，占地空间小。
2. 支持30段程序控温，控温精确，可以控制升温速率和恒温时间。
3. 可更换不同的线圈以满足熔炼不同量的物料需求。
4. 配有观察孔，可以清晰查看炉内坩埚和物料的情况。
5. 可选配红外测温仪，精确测量坩埚内液体温度。
6. 配有分子泵机组，真空度可达5×10-4 Pa。
7. 电极和坩埚可在炉体外手动转动，液体可在腔体内倾倒和浇铸，避免了浇铸的危险，并可在真空下操作。
8. 具有二次加料系统。
9. 转动电极和炉体之间采用威尔逊密封，密封性能好，转动轻松。
10. 可选配水冷机，具有欠压和断水报警，使用安全可靠。
11. 采用IGBT电源，具备过温、断水保护，并有报警和输出电流显示功能。
12. VLF系列真空悬浮熔炼炉是真空或保护气氛条件下用于高纯熔炼、铸造金属材料（如钛、
镍、
钴等合金）及
稀土超磁、伸缩合金、溅射靶材、
多晶硅、高纯
稀土金属的理想设备，广泛适用于大专院校、科研院所和工矿企业。
二、设备优点
1. 能够熔炼高熔点的金属材料。
2. 由于没有坩埚杂质，可生长超高纯度的金属单晶。
3. 缩短熔化时间，实现快速熔化。
4. 水冷铜坩埚损伤较小，寿命长。
5. 水冷铜坩埚与熔融金属液软接触，减少冷却负载，降低能耗。
6. 金属熔液在非接触状态下易于从坩埚内倒出。
三、水冷系统（选配）
感应炉和水冷铜坩埚上需要水冷却。
四、结构说明
本产品由炉盖、炉体、回转机构、浇铸装置、充气系统、真空系统、IGBT电源控制系统等组成。
1. 炉体：为全不锈钢结构，采用双层水冷结构，确保炉壳温度不超过60℃。炉盖手动开启并配有锁紧装置，带观察孔，方便查看炉内情况。
2. 炉架：由型钢钢板组焊成柜架结构，炉体安装在炉架上。
3. 回转机构：通过法兰连接感应线圈，线圈由
铜管绕成螺旋形从炉体引出，密封采用威尔逊密封，可靠性高。坩埚可通过旋转机构任意角度旋转完成溶化后的倾倒浇铸。
4. 真空系统：采用二级泵（扩散泵或分子泵）与直联泵组合，配有高真空挡板阀以及KF快速连接真空放气阀和充气阀。
5. 电源控制系统：采用IGBT悬浮专用电源和全数字电路，电气系统设有过流、过压保护，电控屏按西门子标准制作，控温精度高，操作便捷。
6. 水冷系统：包括各种阀门和管道，具备断水时声光报警及自动切断加热电源功能。
7. 水温检测：安装温度计检测水冷铜坩埚的出水温度，温度过高时自动保护，防止坩埚损坏。
8. 精密提拉机构：支持边旋转边提拉操作。
技术参数
611 
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