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1984 CVD（G）系列高温真空气氛管式炉专门设计用于高温CVD工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等等。 窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温，优质硅钼棒加热，优质99刚玉管炉膛，气体采用浮子流量计流量计控制。进口单回路智能温度控制仪控制，有效的实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。
技术参数
l 设备名称：高温真空气氛管式炉
l 设备型号： CVD(G)-06/50/1
l 最高温度： 1650℃
l 工作温度： RT～1600℃
l 加热区长度：500mm 恒温区：300mm
l 炉管实际尺寸： Φ60（外径）×1250mm （具体尺寸以设计图纸为准）
l 炉管材质： 优质99刚玉管
l 炉膛材料： 氧化铝、高铝和硅酸铝纤维制品
l 控制温区个数： 1个，B分度热偶
l 控温精度：±1℃，日本进口智能温度控制仪，PID参数自整定超温、欠偶、断偶报警保护。
l 加热元件： 优质U型硅钼棒
l 气体种类及流量范围：氮气：0.2～2L/min 氧气 ：0.2～2L/min
l 真空系统：配备机械泵，冷态极限真空度15Pa
l 最大加热功率： 10Kw
l 空炉保温功率： 约4Kw
l 外形尺寸约为：1250×750×1650（L×W×H）
l 建议升温速率： 3℃～5℃/min
l 输入动力电源： 三相电源，50HZ ，380V±10%；12KW
l 炉体表面温升： ≤35℃
CVD(G)-06/50/1高温真空气氛管式炉炉管总长约1.25米加热区长度为500mm。加热元件采用优质U型硅钼棒加热，最大加热功率10kw。两端保温区长各200mm，配有机械泵，可以在冷态条件下预抽真空
设备结构
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