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小型分体式磁控溅射仪是一款小型的单靶磁控溅射镀膜仪,配有一个2英寸的磁控等离子溅射头。射频等离子电源和高压直流电源两种电源可选,用于镀膜各种薄膜材料。单靶射频磁控溅射仪体积小巧,功能出色、配置齐全,兼容超净间,性能稳定。可用于制备高质量的金属薄膜、半导体薄膜、介电、绝缘材料薄膜以及复合薄膜、多层异质结等,广泛应用于材料科学、电子工程、光学、航空航天等领域。
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HT-1800C是一款高温管式炉,其内膛中嵌有Zr02的内衬,加热元件采用硅钼棒。仪器标配中含有一套不锈钢真空法兰(法兰上安装有不锈钢针阀和机械压力表)和一根高纯氧化铝炉管(60mmO.Dx 1000 mmL)。控温系统采用PID50段程序化控温,控温精度可达到±1℃。
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HT-1600C是一款高真空超洁净气氛炉,最高加热温度可达1600℃-1800℃,极限真空度为10-5Torr(需配套分子泵使用),全水冷不锈钢炉体内采用钨带加热,外层为钨多层反射板进行隔温,炉内为全金属材质组成,拥有高洁净度,低放气量的优点,使得该炉在高温下可获得较高真空度,并目拥有很高的洁净度。
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HT-2300C是一款感应加热的卧式管式炉,最高温度可达2300℃,可以在真空和气氛保护下使用,可以在内部放置一根⌀26mm的刚玉管(最高耐温1700℃),用于在空气、水蒸气或氧气气氛下使用。
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HTAF-1700系列箱式气氛炉适用于高校、科研院所、工矿企业做箱式气氛炉应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室,供化学分析、物理测定,以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。高温烧结、金属退火、新材料开发、有机物质灰化、质量检测之用,也适用于军工、电子、医药、特种材料等生产和实验。
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化学气相沉积系统(CVD)为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD), 内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命。HTTF-1200-V-PECVD多路混气真空管式炉PECVD系统广泛应用于沉积高质量SiO薄膜、Si3N4薄膜、金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管(CNT)等。
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高温高压管式炉炉管由镍基高温合金制成,可在高温下承受高压炉膛采用高纯氧化铝纤维,最大程度减少能量损失,内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命铝制散热器安装于壳体上,托住炉管,并带有风冷系统,可有效降低法兰温度安装了压力传感器与泄压电磁阀,具备过温报警同时也具备过压报警自动卸压功能,以确保设备安全运行可选装温度控制和压力监测软件用于远程控制炉体设计为开启式,以方便更换炉管
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本系列升降炉均系周期作业式。设计用于熔化高纯度玻璃、烧结和焙烧陶瓷、磁性材料、电子元件等材料的高温烧结。
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龙门剪切机是一种适用于重型废钢剪切加工的设备,我公司生产的龙门剪吨位在200-1800吨常规机型剪切料口宽度在600-2000mm适用于对轻薄钢料、钢筋、钢板、镍板、钢板、圆钢、钢管、废铜、废钢、废铁、轻金属结构件、不锈钢、金属压块、汽车车体、铝合金、铜材、铁屑、钢丝、汽车、金属压块等废钢破碎设备无法处理的重废及缠绕性物料的破碎加工,该系列设备由于采用全新电液控制系统、加强型油缸其工作效率按照型号可达到3-6次/min。
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大型龙门剪切机是用于重负荷的传统机器,带有“摇摆盖”和超行程的原始压缩盖。采用了新的尾部设计,以更好地支持主推筒,更强大的柴油发动机或双电机。具有更大的剪切开口,剪切机不需要地基配备支撑结构,在该支撑结构中运行液压系统的管道。该结构还支撑掩体以保护圆柱体。这些机器的框架有两个连接件,一个支撑箱和剪切头,另一个用于电机,油箱和液压系统。压缩系统由一个箱体限定,箱体纵向和侧面与底座铰接在两个摆动盖上。主缸(根据要求)可以配备纵向盖以在整个过程中保护缸。
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多头金属非金属粉末成型机此压机采用先进的机、电、液、气一体化控制,具有自动送料装置,浮动压制,使制品成型密度*有效控制;保护性脱模和一般性脱模方式可供选择;液压系统采用的插装阀块,保证液压机连续,频繁的稳定工作;装料、成型、脱模三位置的机械档块定位及无级调整机构,确定了制品的几何尺寸的稳定可调。配有油液冷却装置。采用PLC及人机界面集中控制,同时装有机械限位装置,从而保证制品的一致性。
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2026年01月23日 ~ 24日
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