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煅烧炉,集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料,加热元件为优质硅碳棒。石英腔体横穿于炉体中间作为炉管,炉管两端用不锈钢法兰密封,工件式样在腔体内加热,加热元件均匀分布于腔体下侧,有效的保证了温场的均匀性。测温采用适用于高温环境的“S"型热电偶。煅烧炉能够快速开启,快速升降温,方便客户对特殊材料的装载,烧制和观察。炉体的控制面板配有智能温度调节仪,控制电源开关、主加热工作/停止按钮,工作状态指示灯,以便随时观察本系统的工作状态。
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立式高温淬火炉如图所示,集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料,采用电阻丝为加热元件,用于催化剂焙烧,方便催化剂装填和转移。石英玻璃管横穿于炉体中间作为炉膛,炉管上端用选用不锈钢法兰密封,下端可用根据用户要求使用橡胶塞隔热,配有不锈钢双层托架,可放置样品。工件式样在管中加热,加热元件与炉管平行,均匀地分布在炉管外,有效的保证了温场的均匀性。测温采用性能稳定、长寿命的“K”型热电偶,直接和式样接触,以提高控温的精确性。
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该石墨烯制备设备双温区滑轨式CVD系统系统由预热炉、双温区滑轨炉、质子流量控制系统、真空系统三部分组成。CVD(化学气象沉积系统)常用于表面材料生长、沉积,是一款实验室常用设备。
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碳纳米膜制备设备,由气体质量流量计控制系统、液体注液系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线或膜收集系统,红外烘干系统等组成。生长炉的最高温度1400℃,并可在0-1400℃之间连续可调,垂直式分布热场,三点控温(三段长度平均分配),设备顶部设有注液口、导流器。炉体采用双层壳体结构并带有风冷系统,保温材料为加厚型,壳体表面温度小于60℃。采用高纯氧化铝管作为炉膛材料,加热元件为优质硅碳棒。本款碳纳米管或膜CVD设备可以实现连续生长不间断的特点。
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新能源锂离子储能系统作为电化学新型储能产业的关键核心部件之一,用户加强其组件和系统运行状态的在线监测,会有效提升新型储能并网安全运行水平德普电气为储能系统量身定制了一套储能预警系统一EWSEnergyStorage Early Warning System)产品,主要用于储能系统的在线监测,具备预防和故障处理两大功能。可实现数据展示、告警联动、整合分析、远程监控、事件查看、统计报表等功能,与其它子系统友好兼容,前置化掌控储能电池簇系统的安全运行状况。利用监测突变、分析数据及传感等手段,实现“安全第一,预防为主”。
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该设备具备电阻加热和等离子加热双重加热电源,设备可设计成钟罩式和卧式结构,其主要特点是温度可达1100度自由可调实现高温状态的工件离子氮化,提高了炉温均匀性和满足特殊需求的工件氮化,设备除工件摆放外由可编程序控制器实现全自动运行。设备可设计有多路进气口,既可单路充气,又可实现对炉内充入不同的气体,以便实现不同的表面处理工艺。
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实验室喷雾干燥机S系列,是适合研究开发的小型机,广泛应用于工业用料、金属材料,化学材料、食品药品等多个领域的配方技术检测认证。操作简单,采用可视化宽屏视孔,可确认干燥室内部的雾化状况。同时,采用大尺寸的人孔,操作人员可以便捷的清洗设备内部。变通式设计,可选择不同的系统流程、喷雾方式、收集方式、材料及热源。考虑到一些制品容易受到热影响,采用沿着本体内壁放出热风方式。高纯度材料的处理时可采用耐热HEAP过滤器(最高 500°C)。
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琅菱智能的实验室小型喷雾干燥机X系列,具备可旋转及易清洗特点,有效提高清洗效率。简单易清洗,干燥室可旋转 90 度,无需进入本体就可清洗;由于易清洗,因此适合于多种类的少量生产,高纯度材料及不可有杂质的制品。可变通的设计,可选择不同的系统流程、喷雾方式、收集方式、材料及热源。考虑到一些制品容易受到热影响,可采用沿着本体内壁放出热风方式。高纯度材料的处理时可采用耐热HEAP过滤器(最高 500°C)。进风温度控制:最高是305℃;出风温度:最高是100℃。
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在线式真空脱泡机 LTP系列:借助VTR原理,在真空负压的作用下,浆料通过入口管道进入脱泡机内腔,并将其导入旋转盘中心,通过电机带动高速旋转,物料在旋转盘内表面形成薄膜,在离心力的作用下流向外侧面,利用壁面与材料分子之间的摩擦力、材料与气泡的比重差,将微小气泡从浆料中内部挤压出来,在真空负压的条件下,撞击、打破气泡,经过脱气后的浆料,在离心重力下对“浆料流出”接管造成压力,自动地将浆料压入出料接管,经过引出管流出。实现材料在线式不间断连续脱气工作。
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微焦点X射线全自动点料机XC1000,即X-RAY离线点料机XC1000,适用各类贴片元件,可点01005以上SMD,具备物料标签防错机制,可测7至15寸料盘,价格面议。
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2026年01月23日 ~ 24日
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