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传统回转窑多采用燃煤、天然气、生物质等加热方式,存在能耗高、热效率低、环境污染等弊端,电磁加热回转窑采用电磁加热的方式,大幅度改变了电阻热的热能效率且环保、安全。 筒体:采用电磁感应加热筒体,表面采用硅酸铝棉进行包裹保温,由传统电加热的辐射被动吸热变主动自发热。内部布置一定数量的抄料板。 电磁加热装置工作温度: 80-1150℃,最终工作温度参考计算和测试结果。加热温区:炉体加热段可分为多个独立控温区,保证物料得到较好的逐级预热效果且头尾密封罩与筒体间密封。
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该系列回转窑用于黑色、有色金属、黑色金属、轻烧、焙烧、还原及废物处理等工艺需求,使用温度600~1300之间。
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RTP快速退火炉由我公司自主研发的功能强大的加热设备。该产品采用进口红外线加热管加热,造型新颖结构合理,炉体和炉管可以自由滑动,可实现快速升降温。炉管内尺寸120MM,可以直接放下4英寸的材料。试样反应区处在一个密闭的石英腔体内,在完成生产工艺的同时,也大大降低了间接污染试样的可能性。
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CY-T1200-80IT-MRTP型智能型滑动式快速退火炉是一款多功能的高温实验设备,适用于冶金、材料科学、纳米技术、半导体制造等多个领域。该设备采用一体化炉膛设计,最高工作温度可达1200℃,升温速率≤20℃/min,具备优良的温度控制精度(±1℃)。其独特的滑动式炉体结构,配合高精度滑轨,可实现快速升温和降温,有效提升实验效率。
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CY-RTP1000-Φ200-300-V-T型卤素灯RTP立式快速退火炉是一款专为半导体及材料科学领域设计的高性能设备。该设备采用革新的卤素灯加热技术,能够实现真正的基底温度测量,无需传统温度补偿,温度控制精准且重复性高。其温度范围为150-1250℃,加热速率可达10-150℃/S,具备优异的温度均匀性和快速升温能力。此外,设备配备不锈钢冷壁真空腔室,真空度可达5×10⁻³ Torr甚至低至5×10⁻⁶ Torr,兼容常压和多种气氛环境,适合多种材料的退火处理。其快速数字PID温度控制和触摸屏操作界面,进一步提升了系统的稳定性和易用性。
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CY-RTP1000-Φ300-T型1200℃快速退火炉是一款专为半导体及材料研究领域设计的高性能设备。该设备采用革新的加热技术,配备红外卤素管灯加热,能够实现真正的基片温度测量,无需传统温度补偿,确保温度控制的精准性和重复性。其不锈钢冷壁真空腔室设计,结合高真空分子泵组,可将真空度降低至5×10⁻⁶ Torr,有效避免材料污染,提升退火质量。此外,设备配备快速数字PID温度控制、触摸屏操作界面以及兼容常压和真空环境的多功能设计,适用于多种材料的热处理和退火工艺,是半导体制造和材料科学实验中的理想选择。
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回转窑是一种广泛应用于冶金、地质、矿山、化工建材等领域的高温煅烧设备,尤其在冶金工业中用于矿石焙烧、烧结等关键工艺。其工作原理是物料从窑尾(筒体高端)进入炉内,在筒体倾斜和缓慢回转的作用下,物料沿圆周翻滚并沿轴向移动,完成煅烧过程,最终生成的熟料经冷却排出。该设备最高温度可达950℃,常用温度范围为700-900℃,炉管直径为Φ1200mm,总长度为13000mm,采用电阻带环绕布置加热,配备智能化数显仪表三相SCR控制,控温精度高。
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管式淬火炉是一种高性能的高温设备,广泛应用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业,尤其在冶金领域具有重要价值。其工作原理是通过热电偶将炉温转换为电压信号,经微电脑温度控制调节仪与程控设定值比较后,输出可调信号作用于可控硅,从而实现对电炉电压和温度的精准调节。该设备提供多种温度型号(1000度至1800度),最高使用温度可达1800度,可长期使用温度范围为950度至1750度,控温精度高达±1度,测温元件采用多种分度号热电偶,覆盖0-1850度的测温范围。
2026年01月23日 ~ 24日
2026年01月23日 ~ 25日
2026年01月23日 ~ 25日
2026年01月21日 ~ 23日
2026年01月21日 ~ 23日