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工作原理
SU8700采用高亮度肖特基场发射电子枪，通过4孔可动光圈精准调控电子束强度与聚焦状态。电子束经电磁透镜系统汇聚后，在样品表面进行光栅状扫描，激发二次电子、背散射电子等信号。其独特的“ExB”滤波器设计可有效分离二次电子与低能背散射电子，结合4孔光圈的动态调节，实现低加速电压下0.6nm@15kV、0.8nm@1kV的超高分辨率成像。设备支持0.1kV超低加速电压模式，无需样品台减速即可直接观察纳米级结构，避免电荷积累导致的图像畸变。
应用范围
覆盖半导体封装缺陷检测、锂电池电极孔隙分析、金属材料晶界观察及生物样本超微结构表征等领域。在电子制造中，可无损分析PCB焊点虚焊、芯片键合层空洞；新能源领域支持电池隔膜孔隙率测量及极片剥离强度评估；生物医学方面，可观察细胞培养支架的三维结构及组织切片微观形貌。设备兼容导电性差的样品，无需喷金处理即可直接成像。
产品技术参数
分辨率：0.6nm@15kV（二次电子），0.8nm@1kV
加速电压：0.1-30kV（0.01kV步进）
最大束流：200nA
样品室容量：直径150mm×厚度40mm
探测器配置：上探测器（UD）、下探测器（LD）、镜筒内背散射探测器（MD）、高灵敏低真空探测器（UVD）
样品台：5轴马达驱动（X/Y/Z/T/R），旋转范围360°，倾斜范围-5°至70°
产品特点
4孔可动光圈技术：动态调节电子束强度与聚焦，优化低电压成像质量，减少样品损伤。
EM Flow Creator自动化流程：支持图形化编程，可创建连续图像采集的自动化工作流程，提升数据重现性。
大视野高像素成像：单次扫描最高支持40,960×30,720像素，数字放大20倍后仍可清晰识别神经细胞器等内部构造。
模块化扩展：可选配EDS能谱仪、EBSD电子背散射衍射仪及STEM扫描透射探测器，实现成分分析与晶体结构表征。
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