全部
▼
244
工作原理
USPM-RU-W采用平面光栅与线传感器组合技术，实现380nm-1050nm波长范围内全波长同步分光测定。卤素灯光源发出的复合光经物镜聚焦后照射样品，反射光通过环形照明系统优化均匀性，再经光栅分光后由线传感器采集数据。设备配备专用非接触物镜，可在φ17μm-70μm微小区域内实现高精度聚焦，结合环形照明设计，无需对样品背面进行防反射处理即可测定最薄0.2mm材料的反射率。
应用范围
覆盖光学元件、半导体制造及薄膜材料领域。典型场景包括：LED反射镜、棱镜等光学元件的反射率与膜厚测定；半导体基板表面镀层分析；彩色滤镜、光学薄膜的色度评估；以及45度入射角下的反射率检测。设备支持单层膜（50nm-10μm）与多层膜的膜厚解析，可应对曲面样品及微小电子部件的复杂检测需求。
产品技术参数
波长范围：380nm-1050nm
物镜规格：10×（NA 0.12，工作距离14.3mm）、20×（NA 0.24，工作距离4.2mm）、40×（NA 0.24，工作距离2.2mm）
测定范围：φ2mm平行光透过/反射测定
再现性：±0.02%（430-1010nm，10×物镜）
载物台：XY行程±40mm，Z轴行程125mm，承重3kg
光源寿命：卤素灯平均700小时
产品特点
高速高精度：全波长同步分光技术实现微秒级数据采集，单次测定时间缩短至数秒。
非接触测定：专用物镜与环形照明组合，消除曲面样品检测时的接触干扰，提升重复性。
多模式分析：支持反射率、透过率、膜厚、色度（Lab*）及45度反射率测定，一键切换检测模式。
智能判定功能：内置规格值比对系统，可自动判定检测数据合格性，并生成可视化报告。
咨询底价
