全部
▼
229
工作原理
T650T通过微型X射线管发射高能X射线，穿透镀层后激发基体与镀层元素产生特征荧光辐射。仪器搭载高性能硅漂移探测器（SDD），精准捕获不同能量段的荧光信号，结合智能FP（基本参数法）算法，通过分析荧光强度与镀层厚度的数学关系，实现单层、多层镀层（如Ni/Cu/Au、Cr/Ni/Zn等）的厚度定量检测。其微聚焦光路系统可聚焦至0.1mm微小区域，支持异形曲面及凹槽件的无损测量。
应用范围
该设备覆盖金属及非金属基材的镀层厚度检测需求：
电子制造：检测PCB板、连接器、半导体封装件的镀金、镀镍层厚度；
汽车工业：分析活塞环、气门、传感器等部件的镀铬、镀锌层均匀性；
精密五金：验证钟表、首饰、卫浴配件的电镀层厚度是否符合工艺标准；
新能源领域：支持光伏电池片镀膜、锂电池极片涂层厚度分析，助力工艺优化。
技术参数
检测元素范围：硫（S）至铀（U），覆盖常见镀层金属元素；
厚度检测范围：0.01μm-500μm，分辨率达0.01μm；
探测器类型：高性能硅漂移探测器（SDD），分辨率≤140eV；
准直器配置：Φ0.1mm/Φ0.3mm/Φ1mm三档可选，适配不同检测精度需求；
测试时间：单点检测10-60秒，支持多点自动扫描模式；
样品腔尺寸：350×280×100mm，兼容大尺寸样品检测。
产品特点
无损高效：非破坏性检测避免损伤昂贵工件，单次测试耗时短，大幅提升生产线检测效率；
智能算法：内置FP法与经验系数法双模式，自动优化计算参数，确保复杂镀层体系检测精度；
便携设计：一体式机身结构紧凑，配备万向臂支架，可灵活调整检测角度；
安全防护：采用低功率X射线源与铅玻璃屏蔽窗，辐射泄漏量＜0.5μSv/h，符合国际安全标准。
咨询底价
