一、设备用途：
气相渗透炉主要用于CVD和CVI工艺制备C/C、C/SIC及SIC/SIC
复合材料，力学性能优异，适用于航空航天级别碳基及SIC基复合材料，该设备可用于纵项目SIC包壳管的研制。
C/C复合材料，C/SIC陶瓷基复合材料，热解碳涂层，SIC涂层，以及SIC/SIC复合材料制备。
二、设备特点：
1 立式结构，双层水冷结构设计，炉壳用耐腐蚀材料制成。
2 独特的内罩进排气结构，热场温度均匀性好。
3 气氛控制精确，真空系统配有过滤器，可选配尾气处理系统。
4 控制系统采用PLC加触摸屏控制方式，操作方便，简单。
5 主要电器元件采用施耐德及欧姆龙品牌，性能稳定、可靠。
三、主要技术参数：
411 
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