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该套设备用于梯形铝锭在线提温用，设备额定功率在300kw—500kw，额定频率200—300HZ，在线提温60-250℃，对于截面2350-3000平方毫米铝锭每小时产量5.5T以上，由于设备自动调整输出功率，设备吨耗电量控制在50kW.h/t以内;设备底部设计有直线导轨，可横向移动1.5米，以方便在不需要铝锭加热时将设备移开。
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产品主要针对在空气气氛下对样品的热处理，优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统，可保证实验数据的可靠性;产品采用新型陶瓷纤维材料作为炉膛材料，发热元件安装在炉膛周围，底部精密丝杠线性升降，物料下装载;温度控制采用7寸触摸屏控制，可在线实时查看升温数据曲线，自带存储功能自动保存历史数据，可通过USB接口拷贝数据到计算机查看和打印数据报告。
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1700℃双炉膛升降炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室设计开发，应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域;
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1200℃回转管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室高温热处理工艺，适用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
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1200℃回转可倾管式炉额定工作温度1100℃，主要用于实验室粉末物料的高温热处理，可在真空或者保护气氛下使用，电驱动炉管可旋转，转速可调，回转烧结物料会非常均匀的受热;底部装有电动升降装置，可使炉体倾斜30°，进出料非常方便。
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1200℃可倾斜管式炉工作温度1100℃，主要用于实验室粉末物料的高温热处理，可在真空或者保护气氛下使用;底部装有电动升降装置，可使炉体倾斜30°，进出料非常方便;采用7英寸大屏幕触控仪表，带有数据记录功能，可在计算机上查看和打印历史升温数据。
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产品主要针对在真空或者保护气氛下对样品的热处理，优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统，可保证实验数据的可靠性;产品采用新型陶瓷纤维材料作为炉膛材料，炉管材质优良，炉管两端不锈钢法兰密封，可在真空下工作，法兰上有进气口和出气口，可通入保护气体，精密针型阀可调节进气流量。炉盖开启式结构，炉体两端齿轮电动旋转结构，炉管转速可调，温场均匀，非常适合粉体材料的热处理。
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自动进出料回转管式炉由加热系统、自动回转机构、自动进出料套件和炉体倾斜机构组成，炉管可360°旋转，转速可调;炉管前端配置自动旋转加料装置，加料装置可根据产量选配和加料速度的在线调节，炉体可倾斜15°，炉管末端配置有物料收集装置，可实现产品研发或产品中试等连续化小批量生产，该产品主要应用于无机非金属化合物材料、锂电正负极材料、陶瓷材料、新能源和新材料行业的颗粒粉末烧结热处理专用设备。
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真空连续进料回转管式炉由加热系统、自动回转机构、自动进出料套件、真空密封系统和炉体倾斜机构组成，炉管可360°旋转，转速可调;炉管前端配置自动旋转加料装置，加料装置可根据产量选配和加料速度的在线调节，炉体可倾斜15°，炉管末端配置有物料收集装置，可在真空和气氛下工作，可实现产品研发或产品中试等连续化小批量生产，该产品主要应用于无机非金属化合物材料、锂电正负极材料、陶瓷材料、新能源和新材料行业的颗粒粉末烧结热处理专用设备。
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1200℃-PECVD管式炉系统(等离子增强化学气相沉积系统)由管式炉、真空获得、流量控制和射频电源四大模块组成， 本设备借助13.56Mhz的射频输出使含有薄膜组成原子的气体电离，在真空腔体内形成等离子体，利用等离子的强化学活性，改善反应条件，使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术，最终得到基片上沉积出所期望的薄膜。
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1700℃三温区立式管式炉通过CE认证，额定温度1700℃，炉管采用刚玉管，三个温区采用独立的控制系统，通过温控调节可形成三个不同的梯度温场，炉盖开启式结构，PID30段程序控温，适用于精密陶瓷等新材料的热处理，加热区长度可以按照客户的实际需求定制。
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实验室1700℃立式管式炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
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立式管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理。
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1700℃高温沉降炉可实现悬浮在流体中的固体颗粒下沉而与流体分离的过程，炉顶装有连续螺旋粉料进料系统，炉底装有收集装置，应用于煤粉的富氧燃烧试验和利用重力沉降的固气分离试验。
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STGZ-60-12电磁挂样立式自动淬火炉，额定温度1200℃，可在真空和气氛保护下工作，法兰顶部装有电磁铁，电磁铁下方有金属的物料吊篮，在热处理过程中可通过按钮释放电磁铁，吊篮和物料会自由落体向下运动掉入下方的水槽或者油槽内，对物料进行快速的冷却，可用于研究材料相转变和微结构。
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1700℃三温区立式管式炉通过CE认证，额定温度1700℃，炉管采用刚玉管，三个温区采用独立的控制系统，通过温控调节可形成三个不同的梯度温场，炉盖开启式结构，PID30段程序控温，适用于精密陶瓷等新材料的热处理。
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1700℃立式管式炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
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1700℃气氛箱式炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
2026年01月23日 ~ 24日 
2026年01月23日 ~ 25日 
2026年01月23日 ~ 25日 
2026年01月21日 ~ 23日 
2026年01月21日 ~ 23日 
