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JFH-27端淬试验专用加热炉是一款高性能的实验室热处理设备，采用六面加热设计，确保炉温均匀性达到国际先进水平，特别适用于端淬试样加热试验等精密加热需求。其额定温度为1000℃，炉膛尺寸为300×300×300mm，升温时间不超过80分钟，配备PID智能温控仪表，控温精度可达±1.5℃，炉温均匀度≤3.0℃。设备采用铁铬铝合金丝作为加热元件，炉膛材质为莫来石制品，额定功率8.0kW，电源电压380V/3Φ。外形尺寸为850×900×750mm，重量150kg，支持RS485通讯接口和监控软件（选配），满足实验室精密加热和自动化控制需求。
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宇舟湿式金相试样立式磨平机MPJ-35是一款专为金相试样制备设计的专业设备，通过机械研磨与湿式冷却技术结合，实现试样表面高效粗磨，显著提升制备质量与工效。其不锈钢结构与模块化设计兼顾耐用性与易维护性，是金相实验室及工业检测领域的理想选择。
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JFH-10端淬试验专用加热炉是一款专为实验室热处理和端淬试样加热试验设计的精密设备。它采用四面加热方式，确保炉温均匀性优于端淬试验标准要求，特别适合端淬试样加热。炉壳由薄钢板焊接而成，内衬为复合陶瓷纤维材料，具有真空成型、高温不掉粉的特点。设备配备可编程30段以上温控系统，可设定升温速率，控温精度达±1℃。额定温度为1000℃，炉温均匀度为±3℃，升温时间不超过20分钟即可达到700℃。加热元件为内嵌电阻丝，额定功率4.0kW，电源电压220V。
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iAPS-9000全自动金相磨抛系统是一款高度自动化的金相样品制备设备，具备3个工位（磨抛工位、清洗吹干工位、上下料工位），支持9种磨抛介质的换盘架，可更换金刚石磨盘、砂纸及各种抛光布。样品清洗工位配备6个喷水口和吹气口，支持自动装卡和卸下样品（选件），并集成4种不同抛光液体的加液单元（数量可定制）。设备一次可磨抛完成6个样品（选件：8个样品），提供两种加压方式：单样品加压或样品盘加压（选件）。
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LAPS-3000-6 全自动金相磨抛系统为含有研磨和抛光的多工位磨抛的全自动金相试样磨抛系统。将多达8个样品放置到样品夹持盘，一键启动，系统自动完成研磨、抛光、清洗等工序，所有8个样品自动抛光完成；整个研磨、抛光过程的参数，转速、压力、磨抛时间、喷淋冷却水、抛光 材料的加入等所有参数均由用户选择，完全自动控制。正在实现方便、快捷、高效、无人值守完成整个金相样品制备过程。
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LAP-2000M全自动金相磨抛机是一款高效、自动化的金相样品制备设备，具备自动换盘和摆动功能，能够在两个磨抛盘之间自动转换样品盘，实现连续磨抛。样品盘支持自动左右摆动，摆动幅度和速度可调。设备采用中心加载力方式，一次性固定六个样品，完成全部研磨抛光过程，保证样品的完整平面。磨抛参数（转速、时间、方向、水阀关闭等）可设置并自动保存，方便调用。设备配备1kW高功率伺服电机（可选配双电机），扭矩大且恒定，速度范围广（0-1000r/min，最大1500r/min），转盘快速启停（2秒内停止）。
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LAP-2000SC触摸屏全自动磨抛机是一款高性能的金相样品制备设备，采用中心加载力方式，一次性固定六个样品，完成全部研磨抛光过程，保证磨抛出各个样品的完整平面。设备独立控制磨抛盘和样品盘，支持转速、磨抛时间、转动方向、水阀关闭等参数的设定。触摸屏界面操作方便，状态显示直观。加载力可在运行中调整，灵活方便。设备配备电磁阀控制水的通断，支持轻松更换磁性防粘盘，完成各种试样的粗、精磨及粗、精抛光等工序。运行精度高，噪音低，提供良好的操作体验。
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LAP-2MV双盘双控金相磨抛机是一款高性能的金相样品制备设备，具备两个独立控制的磨盘，每个磨盘配备独立电机，提供八档常用速度，每档速度可由用户自行设定，实现无级调速。设备支持逆时针/顺时针旋转方向的一键切换，配备回转水管冷却系统，可旋转方向并调节水流量大小，确保冷却效果。运行平稳，噪音低，提供良好的操作体验。工作盘直径标配为φ230mm（可选配φ203mm），磨盘转速范围为100-1000r/min，使用0.75kW × 2个电机，AC220V 50Hz电源，外形尺寸为670×710×340mm，重量为52kg。
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LAP-2E四速金相磨抛机是一款多功能的金相样品制备设备，具备双磨抛盘，每个盘提供低速（300r/min、500r/min）和高速（600r/min、1000r/min）两种转速，易于切换，满足不同研磨和抛光需求。设备配备可旋转方向并调节水流量大小的回转水管冷却系统，确保冷却效果。运行噪音低，磨盘平整，提供良好的操作体验。工作盘直径标配为φ230mm（可选配φ203mm），使用0.37kW电机，AC380V电源（可定制AC220V），外形尺寸为700×710×340mm，重量为46kg。
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LAP-1E双速金相磨抛机是一款多功能的金相样品制备设备，能够完成金相试样的研磨和抛光等过程。它具备两档定速切换功能（500r/min和1000r/min，可定制），操作简单方便。设备配备回转水管冷却系统，可旋转方向并调节水流量大小，确保冷却效果。运行噪音低，磨盘平整，提供良好的操作体验。工作盘直径标配为φ230mm（可选配φ203mm），使用0.37kW电机，AC380V 50Hz电源（可定制AC220V），外形尺寸为680×360×340mm，重量为37kg。
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LAP-1000S/LAP-2000S全自动金相磨抛机是高性能的金相样品制备设备，支持多点加压和中心加压，可同时处理多个样品，一次性固定6个（可定制8个）样品，完成全部研磨抛光过程。设备采用PLC控制和1kW高功率电机，扭矩大且恒定，速度范围广（5-1000r/min，最大1500r/min），转盘2秒内快速启停。所有磨抛参数（转速、时间、方向、水阀关闭等）可自动保存并方便调用。设备提供全自动、单工序、按材料和手动四种工作模式，支持99套工艺和30种工序参数，配备进口PLC品牌，确保质量可靠。
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LAP-2SE和LAP-2S自动金相磨抛机是高效、自动化的金相样品制备设备，采用PLC控制和高功率电机，确保运行稳定可靠。LAP-2S配备两个独立的1kW高功率电机，而LAP-2SE配备单电机，扭矩大且恒定，适用于各种转速需求。设备速度范围广（5-1000r/min，最大1500r/min），转盘快速启停（2秒内停止），所有磨抛参数（转速、时间、方向、水阀关闭等）可自动保存并方便调用。提供四挡手动模式、64种自动工序和12种常用材料磨抛工艺，配备进口PLC品牌，确保质量可靠。
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LAP-1S自动金相磨抛机是一款高效、自动化的金相样品制备设备，采用PLC控制和1kW高功率电机，确保扭矩大且恒定，适用于各种转速需求。设备速度范围广（5-1000r/min，最大1500r/min），转盘快速启停（2秒内停止），所有磨抛参数（转速、时间、方向、水阀关闭等）可自动保存并方便调用。提供四挡手动模式、64种自动工序和12种常用材料磨抛工艺，配备进口PLC品牌，确保质量可靠。触摸屏界面使磨抛参数设定更加方便，还可连接抛光液滴液器（选件），进一步提升自动化程度。
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LAP-100X半自动金相磨抛机是一款高效、多功能的金相样品制备设备，可同时处理三个样品，支持样品左右摆动实现半自动磨抛。设备采用1kW高功率电机，扭矩大且恒定，速度范围广（5-1000r/min，最大1500r/min），配备触摸屏界面，操作方便。磨抛参数可自动保存，支持64种自动工序和12种常用材料磨抛工艺。水阀自动控制，水滴位置和流量可调节，还可连接抛光液滴液器，提升自动化程度。
2026年01月23日 ~ 24日 
2026年01月23日 ~ 25日 
2026年01月23日 ~ 25日 
2026年01月21日 ~ 23日 
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